真空镀膜是一种表面处理技术,通过在高度真空的环境中,采用物理或化学方法将金属、非金属或化合物材料转化为气态或等离子态,并沉积于玻璃、金属、陶瓷、塑料或有机材料等固体基材表面,形成一层薄膜。这个过程旨在最大限度地减少杂质的干扰,以确保薄膜的纯净度和质量。真空镀膜技术不仅能够为材料表面带来新的机械和装饰性能,还能赋予声、电、光、磁等特殊功能,从而提升产品性能,提高产品质量,并延长产品的使用寿命。
行业分类
真空镀膜行业按照技术维度主要分为物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD),每种技术均有其特定的操作原理及应用场景。应用领域则涵盖集成电路、光伏、磁性材料等,这些不同领域对镀膜技术有独特的需求和预期效果。镀膜材料则根据不同镀膜工艺需求而有所区分,常见材料包括各种金属、合金及化合物。
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